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立即咨询等离子处理系统技术促进了半导体材料和光学工业生产的快速发展趋势，并被普遍使用于精密的机器设备、汽车工业、新能源技术、航天航空、污染治理等众多高新科技行业。等离子处理系统等离子清洗工艺的关键是低温等离子体的运用，低温等离子体关键借助高温、高频率、高能等外部条件造成，是一种气体状物质，具备中性化、高能、电离气体。低温等离子体的动能约为几十电子伏特，在其中带有离子、电子、自由基和其它特异活性顆粒，及其紫外线等物质，这种顆粒便于与污染物质分子结构反应在材料外表上，使之分离出来，因而可被清理。因为低温等离子体比高能射线的能量低得多，因此这个办法只涉及到原材料的表层，不容易影响到材料的板材特性。
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